IBM hat heute bekannt gegeben, dass eigene Forscher einen neuen Prozess für die Herstellung von Schaltkreisen gefunden haben. Mit dem neuen Verfahren können 30 Nanometer Chips hergestellt werden, während der aktuelle Industriestandard bei 90 Nanometern liegt.
Damit scheint es möglich zu sein, die Suche nach grundsätzlich anderen Herstellungsverfahren für Schaltkreise wieder einmal auf die etwas längere Bank zu schieben. Mehr über das "optische Lithographie" genannte Verfahren gibts direkt bei IBM.
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Billiger wird es dadurch nicht, oder etwa doch?
Doch, so bekommst Du auf einen Waver deutlich mehr Schaltkreis unter - wenn Du die größe der Leiterbahnen auf 1/3 (von 90 auf 30) reduzieren kannst passen rein rechnerisch 9mal (weil die Waver rund sind sogar noch etwas mehr) so viele Schaltungen auf die gleiche Fläche (ob man das wirklich auch so ausnutzen kann weiß ich nicht, z.B. die Kontaktstellen zum bonden werden schon noch eine gewissse Mindestgröße haben müssen)...
Gruß
Borlander
Doch, so bekommst Du auf einen Waver deutlich mehr Schaltkreis unter - wenn Du die größe der Leiterbahnen auf 1/3 (von 90 auf 30) reduzieren kannst passen rein rechnerisch 9mal (weil die Waver rund sind sogar noch etwas mehr) so viele Schaltungen auf die gleiche Fläche (ob man das wirklich auch so ausnutzen kann weiß ich nicht, z.B. die Kontaktstellen zum bonden werden schon noch eine gewissse Mindestgröße haben müssen)...
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Borlander